Fyysinen laki
(1) Mekaaninen puhdistusmenetelmä: puhdistusmenetelmä ja kaavinpuhdistusmenetelmä, poraputken puhdistusmenetelmä, haulipuhdistuksen puhdistusmenetelmä.
(2) Vettä säästävä puhdistusmenetelmä: matalapaineinen hydraulinen puhdistus (matalapainepuhdistuksen paine on 196-686 kPa, noin 2-7 kgf/cm², yhtä suuri kuin 0.{{6} }}.7Mpa).
(3) Korkeapainevesisuihkulaitteiden puhdistus: Korkeapainepuhdistuksen paine on 4900 kPa, noin 50 kgf/cm², mikä vastaa 5Mpa. Tätä menetelmää kutsutaan myös korkeapainevesisuihkumenetelmäksi ja korkeapainepesuriksi.
Elektroninen laki
Periaate on: käytä suurtaajuista sähkökenttää veden molekyylirakenteen muuttamiseen, jotta se ehkäisee hilseilyä ja kalkinpoistoa. Kun vesi kulkee suurtaajuisen sähkökentän läpi, sen molekyylifyysinen rakenne muuttuu, alkuperäinen assosiaatioketju, joka koostuu suuresta jakautumisesta wyt{3}}dsry, jakautuu yhdeksi vesimolekyyliksi, vedessä olevien suolojen positiiviset ja negatiiviset ionit. joita ympäröi yksi vesimolekyyli, liikenopeus pienenee, tehokkaat törmäysajat lyhenevät, sähköstaattinen vetovoima vähenee ja lämmitetyn seinämän putken pinnan rakennetta ei voida saavuttaa, jotta saavutetaan kalkinpoiston tarkoitus. Samanaikaisesti vesimolekyylien dipolimomentin kasvaessa suolan positiivisten ja negatiivisten ionien (mittamolekyylien) adsorptiokyky kasvaa, jolloin lämmityspinnan tai putken seinämän kalkki pehmenee ja helppo pudota, mikä johtaa kalkinpoistovaikutukseen.
Sähköstaattinen menetelmä
Sähköstaattinen kalkinpoisto ja sähköstaattinen kalkinpoisto, kuten elektroninen kalkinpoisto, saavuttavat myös hilseilyn ja kalkinpoiston tarkoituksen muuttamalla vesimolekyylien tilaa. Kyse on vain siitä, että jälkimmäinen käyttää sähköstaattisten kenttien toimintaa, ei elektroneja. Mekanismi on se, että vesimolekyylit ovat polaarisia (tunnetaan myös dipoleina), ja kun vesidipolit kulkevat sähköstaattisen kentän läpi, jokainen vesidipoli järjestetään positiiviseen ja negatiiviseen järjestykseen jatkuvalla tavalla. Jos vesi sisältää liuenneita suoloja, sen positiiviset ja negatiiviset ionit ovat vesidipolien ympäröimiä, ja ne ovat myös vesidipoliryhmässä positiivisessa ja negatiivisessa järjestyksessä eivätkä voi liikkua itsestään, joten ne eivät pääse lähelle seinää putkesta (laite) ja kerrosta sitten putken (laitteen) seinälle kalkin muodostamiseksi. Samalla veteen vapautuva happi voi tuottaa putken seinämään erittäin ohuen oksidikerroksen, joka voi estää putken (laitteen) seinämän korroosion.
Kemiallinen menetelmä
Pintakontaminaatio tai peitekerros poistetaan kemiallisella reaktiolla kemiallisten aineiden kanssa, kuten peittauksella ja hilsekerroksen alkalipesulla. Alustan korroosion estämiseksi kemiallisessa puhdistuksessa tai korroosionopeuden säätelemiseksi sallitulla alueella, kemialliseen puhdistusliuokseen tulee lisätä sopiva määrä korroosionestoainetta ja lisäaineita aktivoimaan, tunkeutumaan ja kostuttamaan. Menetelmä: Upotusmenetelmää, kierrätysmenetelmää ja käytönaikaista puhdistusmenetelmää kutsutaan myös non-stop-kemialliseksi puhdistusmenetelmäksi.